半导体制造装置、涂敷装置及半导体器件的制造方法

提供一种能够提高涂敷均匀性的半导体制造装置、涂敷装置及半导体器件的制造方法。半导体制造装置具有：涂敷装置，其具有保存膏体的注射器、设于上述注射器的前端的喷嘴支承件、设于上述喷嘴支承件的喷嘴、和对上述喷嘴支承件进行加热的加热部，在涂敷对象物上涂敷上述膏体；和控制部，其构成为通过上述加热部对上述喷嘴支承件进行温度调节，并且从上述喷嘴将上述膏体涂敷到上述涂敷对象物之上。