超表面单光子探测器及其制备方法

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超表面单光子探测器及其制备方法
申请号:CN202410920221
申请日期:2024-07-10
公开号:CN118712246A
公开日期:2024-09-27
类型:发明专利
摘要
本发明提供超表面单光子探测器及其制备方法,包括:衬底层和在衬底层上依次生长的外延结构、P电极和N电极;所述衬底层设置有超表面结构。通过在芯片的衬底结构上设置超表面结构,既保留原有单光子探测器芯片外延结构的高性能,也引入了超表面节后改善单光子探测器芯片的探测效率,对单光子探测器的整体性能进行提高。
技术关键词
单光子探测器 超表面结构 扩散结构 电极 涂覆光刻胶 芯片外延结构 光刻胶表面 衬底层 蚀刻掩膜 衬底结构 沟槽 高性能 镀膜 抛光
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