暗阴影校正方法、暗阴影校正系统和成像装置

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暗阴影校正方法、暗阴影校正系统和成像装置
申请号:CN202410982122
申请日期:2024-07-22
公开号:CN120151675A
公开日期:2025-06-13
类型:发明专利
摘要
本申请涉及暗阴影校正方法、暗阴影校正系统和成像装置。一种暗阴影校正方法和用于实现其的装置提供了能够针对导致暗阴影现象的图像的各个部分执行校正的技术,随着半导体芯片的尺寸增加,暗阴影现象可能发生在各种位置。所述暗阴影校正方法包括以下步骤:将暗图像划分成多个第一划分图像;将要根据预定标准再划分的各个第一划分区域划分成多个第二划分区域;以及计算各个划分区域的校正参数。结果,所述暗阴影校正方法和装置针对图像的各个部分执行单独的暗阴影校正,从而导致形成具有改进的质量的图像。
技术关键词
阴影校正方法 图像感测装置 成像装置 像素 存储器装置 图像生成器 参数 阴影现象 矩阵结构布置 半导体芯片 电路 噪声 阵列 指派 尺寸 信号
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