一种高密度扇出封装结构及其制造方法

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一种高密度扇出封装结构及其制造方法
申请号:CN202411020529
申请日期:2024-07-29
公开号:CN118969743A
公开日期:2024-11-15
类型:发明专利
摘要
本发明公开一种高密度的扇出封装结构,包括芯片;第一互连层,其设置于所述芯片表面,包括重布线路;集成器件,所述集成器件设置于所述第一互连层上;金属柱,其第一端与所述第一互连层连接;塑封层,其包覆所述金属柱及所述集成器件,但露出所述金属柱的第二端面及所述集成器件的背部;第二互连层,其设置于所述塑封层的第二表面,且包括重布线电路,所述重布线电路与所述金属柱的第二端和集成器件电连接;以及外接焊球,其设置与所述第二互连层的外接焊盘处。封装内部集成了ASIC、DDR芯片和IPD集成无源器件,封装面积更小,成本更低且缩短了工艺周期,可应用于服务器、数据中心、高性能计算等领域。
技术关键词
集成器件 集成无源器件 深槽电容 封装结构 重布线 堆叠芯片 大马士革工艺 导电线路 ASIC芯片 模组 通孔工艺 堆叠结构 电路 数据中心 高密度 高性能 电信号 焊盘
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