一种全环绕源漏栅极的IGZO晶体管及反相器单元

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一种全环绕源漏栅极的IGZO晶体管及反相器单元
申请号:CN202411022413
申请日期:2024-07-29
公开号:CN118738129A
公开日期:2024-10-01
类型:发明专利
摘要
本发明公开一种全环绕源漏栅极的IGZO晶体管及反相器单元。IGZO晶体管,包括:全环绕源极、全环绕漏极、全环绕栅极、栅极介质层、IGZO沟道层、保护层。本发明全环绕源漏栅极是源极、漏极和栅极完全将沟道层IGZO包围,其中源极和漏极将沟道层包围可以有效增加电流的传输路径,降低寄生电容和接触电阻,从而提高器件的开关速度、导通电流,降低信号延迟、噪声和功耗;栅极的全环绕结构可实现对沟道的全面控制并减少短沟效应,从而提高器件的可微缩性和稳定性。反相器单元由上述IGZO晶体管和硅晶体管构成,有利于降低漏电,堆叠更多的逻辑单元,从而降低芯片的功耗、减少面积、提升性能。
技术关键词
反相器单元 晶体管 栅极介质层 工艺相兼容 衬底 沟道层材料 短沟效应 传输路径 功耗 端口 电流 单晶 逻辑 噪声 芯片 电阻 开关 速度
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