摘要
本发明公开一种全环绕源漏栅极的IGZO晶体管及反相器单元。IGZO晶体管,包括:全环绕源极、全环绕漏极、全环绕栅极、栅极介质层、IGZO沟道层、保护层。本发明全环绕源漏栅极是源极、漏极和栅极完全将沟道层IGZO包围,其中源极和漏极将沟道层包围可以有效增加电流的传输路径,降低寄生电容和接触电阻,从而提高器件的开关速度、导通电流,降低信号延迟、噪声和功耗;栅极的全环绕结构可实现对沟道的全面控制并减少短沟效应,从而提高器件的可微缩性和稳定性。反相器单元由上述IGZO晶体管和硅晶体管构成,有利于降低漏电,堆叠更多的逻辑单元,从而降低芯片的功耗、减少面积、提升性能。
技术关键词
反相器单元
晶体管
栅极介质层
工艺相兼容
衬底
沟道层材料
短沟效应
传输路径
功耗
端口
电流
单晶
逻辑
噪声
芯片
电阻
开关
速度
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