一种高密度2.5D转接板结构及其制备方法

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一种高密度2.5D转接板结构及其制备方法
申请号:CN202411024465
申请日期:2024-07-29
公开号:CN118919423A
公开日期:2024-11-08
类型:发明专利
摘要
本发明提供一种高密度2.5D转接板结构及其制备方法,在涂覆有第一光敏树脂胶的第一基体上金属化形成第一凸台;在具有第一凸台的第一基体的一侧键合第二基体,将第一基体的另一侧减薄并涂覆第一光敏树脂胶,在涂覆有第一光敏树脂胶的第一基体上形成TSV盲孔和TSV结构后,进行平坦化处理;将第一基体全部刻蚀,在第二基体上填充形成第三基体,将第三基体减薄至TSV结构露出,在第三基体上制备形成重布线层,在重布线层制备形成微凸点结构;在靠近微凸点结构一侧的第三基体表面临时键合第四基体,去除第二基体,并在TSV结构倒装焊接芯片;在倒装焊接芯片的区域填充第五基体,去除第四基体,微凸点结构焊接I C载板,形成2.5D转接板结构。
技术关键词
转接板结构 微凸点结构 基体 倒装焊接芯片 重布线层 高密度 金属化设备 种子层 涂覆 IC载板 刻蚀设备 凸台 光敏树脂材料 热压焊机 黄光工艺 填充系统 曝光设备 光刻设备
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