具有电流扩展层的发光二极管芯片及其制备方法

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具有电流扩展层的发光二极管芯片及其制备方法
申请号:CN202411077733
申请日期:2024-08-07
公开号:CN119208480A
公开日期:2024-12-27
类型:发明专利
摘要
本公开提供了一种具有电流扩展层的发光二极管芯片及其制备方法,属于半导体技术领域。该发光二极管芯片包括第一电流扩展层、外延层和第二电流扩展层;第一电流扩展层和第二电流扩展层分别位于外延层的相反两侧;第一电流扩展层包括周期性交替层叠的阱层和垒层,阱层为(Alx1Ga1‑x1)0.5In0.5P层,0.1≤x1≤0.2,垒层为(Alx2Ga1‑x2)0.5In0.5P层,0.3≤x2≤0.4,阱层的厚度大于垒层的厚度。本公开能够有效的解决吸光的问题。
技术关键词
电流扩展层 发光二极管芯片 应力过渡层 欧姆接触层 半导体层 外延 周期性 层叠 量子阱层 电极 掺杂剂 速率
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