晶圆厚度无损测量装置及测量方法

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晶圆厚度无损测量装置及测量方法
申请号:CN202411109607
申请日期:2024-08-13
公开号:CN118999372A
公开日期:2024-11-22
类型:发明专利
摘要
本发明提供晶圆厚度无损测量装置及测量方法。测量装置包括支架、样品座、标准厚度片、上丝杆升降驱动机构、上激光位移传感器、下丝杆升降驱动机构、下激光位移传感器和控制器。本发明借助于已溯源的标准厚度片,通过比较测量,避免了单头测量中硅片与大理石之间的空隙引起的误差;也避免了接触式测量带来的对晶圆造成损伤的可能。通过上、下丝杆升降驱动机构预先将上、下激光位移传感器将其测距范围调节至其焦点距离,这样对晶圆测量读数就充分利用了上、下激光位移传感器测量精度最高的测距量程,实现了对晶圆非接触式的高精度测量。
技术关键词
激光位移传感器 升降驱动机构 无损测量方法 放样盘 晶圆 移动机构 焦点 样品座 接触式 立柱 三维模型 计算机 控制器 圈环 基座 数据 指令 硅片 重构
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