获取光刻图案关键尺寸的方法

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获取光刻图案关键尺寸的方法
申请号:CN202411480654
申请日期:2024-10-22
公开号:CN119361462B
公开日期:2025-09-26
类型:发明专利
摘要
本发明提供一种获取光刻图案关键尺寸的方法。该方法包括:提供晶圆,晶圆表面形成有图案化的光阻层,图案化的光阻层包括互补的光阻图案和空隙图案,光阻图案和空隙图案对应的掩模版图案的关键尺寸相等;使用扫描电子显微镜测量机台的电子束对光阻图案和空隙图案均进行多次扫描,获得光阻图案的多个图像帧和空隙图案的多个图像帧;将光阻图案的多个图像帧进行叠图获得第一图片,将空隙图案的多个图像帧进行叠图获得第二图片;基于第一图片测量光阻图案关键尺寸获得第一关键尺寸,基于第二图片测量空隙图案关键尺寸获得第二关键尺寸;计算第一关键尺寸和第二关键尺寸的均值作为图案关键尺寸测量值。如此获得的图案关键尺寸测量值精度高。
技术关键词
光阻图案 光刻图案 空隙 尺寸 扫描电子显微镜 图片 测量机 图像 晶圆 电子束 模版 算法
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