摘要
本发明提供一种LED芯片制备方法及LED芯片,通过对N型GaN层表面进行处理,具体的,将黄光工艺后暴露出N型GaN层的晶圆进行ICP刻蚀,ICP刻蚀分为两次刻蚀,首先通入氩气进行快速刻蚀,然后通入氩气和氧气的混合气体再进行刻蚀;将刻蚀后的晶圆放入酸性溶液中浸泡,后进行清洗;将清洗后的晶圆进行Al金属蒸镀,沉积N电极金属层,其中,通过氩气和氧气处理N型GaN层表面,可以显著降低N型GaN层和金属Al的接触电阻,且不产生额外的附属产物,另外,该工艺不仅可以降低LED芯片的电压,还可以提高LED芯片的亮度。
技术关键词
LED芯片
GaN外延层
电极金属层
ITO电流扩展层
P型GaN层
电流阻挡层
多量子阱层
氧气
溶液
功率
衬底
气压
盐酸
亮度
电阻
电压
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