摘要
本发明公开了一种双面凸块封装芯片的封装方法,其解决了双面凸块芯片易氧化和漏电的缺陷,确保了双面凸块封装芯片的品质和工作稳定性。其特征在于:在晶圆正面作业完成后,晶圆正面与玻璃键合后反置,之后研磨晶圆背面的Si面并进行应力释放,然后在Si层的表面作业一层SiO2层,之后在SiO2层表面溅射Ti/Cu层,之后在Ti/Cu层的表面再电镀Cu,形成电镀Cu层,然后通过光刻,在晶圆背面形成对应图形的RDL,再通过光刻,Ti/Cu层刻蚀和去胶作业,完成背面Cu的制作,在背面Cu作业完成后,对晶圆背面进行等离子处理,然后再通过化镀方式,完成对RDL表面的保护,再次倒置后,照UV光进行解键合、将玻璃和晶圆分开,通过机械切割形成完整的单颗芯片。
技术关键词
封装芯片
封装方法
金属防护层
双面
种子层
凸块
沉积作业
电镀
晶圆背面
光刻
玻璃
刻蚀方式
应力
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