摘要
本公开提供一种半导体器件、芯片及电子设备,涉及半导体技术领域,具体涉及氮化镓功率器件,旨在解决具有反向阻断特性的半导体器件开启电压高的问题。半导体器件包括衬底、沟道层、势垒层、栅极、源极、漏极和功能层;沟道层和势垒层层叠设置于衬底之上,势垒层相比沟道层远离衬底;栅极位于势垒层远离衬底的一侧;源极和漏极位于势垒层远离衬底的一侧,且分别位于栅极在第一方向上的相对两侧,第一方向为源极、栅极和漏极的排列方向;功能层位于势垒层远离衬底的一侧,且功能层和漏极位于栅极的同一侧;漏极至少覆盖功能层靠近栅极的侧面以及功能层远离栅极的侧面,且漏极与势垒层接触。
技术关键词
半导体器件
势垒层
衬底
栅极
p型氮化镓
氮化镓功率器件
封装基板
电子设备
凹槽
芯片
缓冲层
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