一种LED外延片、石墨烯层的生长方法及LED芯片

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一种LED外延片、石墨烯层的生长方法及LED芯片
申请号:CN202411612220
申请日期:2024-11-12
公开号:CN119584729A
公开日期:2025-03-07
类型:发明专利
摘要
本申请涉及一种LED外延片、石墨烯层的生长方法及LED芯片,属于LED技术领域。一种LED外延片,包括:衬底,以及在衬底上依次外延生长的石墨烯层、缓冲层、未掺杂GaN层、n型GaN层、应力释放层、多量子阱层、电子阻挡层和p型GaN层;其中,单层石墨烯层的厚度为0.5‑1.5nm,石墨烯层的层数至少为2层。本申请提供的LED外延片,通过石墨烯夹层的沉积,降低了GaN模板层中的缺陷密度。这使得电子和空穴的复合效率提高,从而增强了LED的发光效率。石墨烯层的存在降低了芯片的压缩应变,减少了极化场的影响,使得电致发光(EL)的发射波长更加稳定。
技术关键词
LED外延片 应力释放层 多量子阱层 电子阻挡层 GaN层 石墨烯夹层 蓝宝石衬底 单层石墨 缓冲层 LED芯片 溶液 波长 模板
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