一种应用于水稻除草地膜的高精度覆膜定位方法及系统

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一种应用于水稻除草地膜的高精度覆膜定位方法及系统
申请号:CN202411615554
申请日期:2024-11-13
公开号:CN119492379A
公开日期:2025-02-21
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种应用于水稻除草地膜的高精度覆膜定位方法及系统,包括:获取水稻种植区域的基本信息及除草地膜宽度信息,确定除草地膜的全覆盖路径,通过格栅法对全覆盖路径进行表示;获取水稻种植区域的除草地膜覆盖过程中的UWB定位数据及LiDAR定位数据,融合生成融合定位数据;根据格栅化处理后的全覆盖路径分割定位样本,利用多元状态估计方法构建正常覆膜定位模型,将融合定位数据导入正常覆膜定位模型,将计算的残差与所述基准残差进行对比,判断除草地膜覆盖过程中的覆盖偏差,调整覆盖位置。本发明利用两种定位方法融合定位,提高了除草地膜覆盖过程中的精度,基于定位结果评估覆盖偏差,保证了稻田覆膜质量。
技术关键词
除草地膜 覆膜 状态估计方法 定位方法 全覆盖 高分辨率遥感影像 样本 偏差 地图 mRMR算法 数据驱动建模 识别模块 生成训练数据 精度 异构传感器 基准 覆盖格栅 定位模块
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