一种基于平面器件的暗场散斑照明超分辨成像系统

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一种基于平面器件的暗场散斑照明超分辨成像系统
申请号:CN202411925786
申请日期:2024-12-25
公开号:CN119535759B
公开日期:2025-10-17
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种基于平面器件的暗场散斑照明超分辨成像系统,属于超分辨暗场成像领域,所述系统利用633nm激光光源发出波长为633nm的强相干性光束,通过多模光纤束入射到平面器件中,出射的激光入射到二氧化钛散射层中进行散射,入射到一维光子晶体,所述一维光子晶体筛选数值孔径大于0.6的散斑穿过所述一维光子晶体并照明样品;被照明的样品发出散射光到达像面探测器形成样品的暗场散斑图案;通过振动器振动多模光纤束改变入射强相干性光束的位相,将多张不同的暗场散斑图案进行恢复得到高分辨率暗场图像。本发明成像分辨率高,结构紧凑易于集成,操作简单,无需严格对准过程,实现了高对比度的超分辨暗场成像和表面波成像。
技术关键词
超分辨成像系统 散斑照明 光子晶体 散斑图案 多模光纤 相干性 成像物镜 散射层 暗场成像 激光光源 光束 氰基丙烯酸乙酯 振动器 二氧化钛颗粒 探测器 散射光 梯度算法 纳米薄膜
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