三基色Micro-LED芯片及其制备与巨转方法

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三基色Micro-LED芯片及其制备与巨转方法
申请号:CN202411930742
申请日期:2024-12-26
公开号:CN119364939A
公开日期:2025-01-24
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种RGB三基色Micro‑LED芯片及其制备与巨转方法,涉及半导体器件技术领域,该方法通过对预先提供的目标晶圆进行芯片制作,得到共阴极、阳极独立的RGB三基色Micro芯片,在进行正式的巨量转移时,只需要进行一次激光巨量转移,就可以实现将RGB三基色Micro芯片转移至电路基板上,同时由于RGB三基色Micro芯片的阴极电极为共阴设计,增加了RGB三基色Micro芯片与电路基板的固晶键合作用,使RGB三基色Micro芯片与电路基板的键合更稳定。采用本发明所示方法,既能有效提升RGB三基色Micro芯片的转移效率,降低制作成本,又可提升键合稳定性。
技术关键词
外延 RGB三基色 电路基板 刻蚀阻挡层 UV感光材料 衬底 LED芯片 半导体器件技术 欧姆接触层 包覆层 晶圆 阴极电极 半导体层 光刻 层叠
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