摘要
本发明公开了一种花状VCSEL芯片及其制备方法,其涉及VCSEL芯片技术领域,旨在解决目前VCSEL芯片的结构上基本一致,但是相同的结构和形状不利于VCSEL芯片中电流注入效率,降低了整体的工作效率的问题,其技术方案要点是包括N型衬底,所述N型衬底上端固定连接有缓冲层,所述缓冲层上端固定连接有N‑DBR层,所述N‑DBR层上端固定连接有N型掺杂层,所述N型掺杂层上端固定连接有有源区层,所述有源区层上端固定连接有P型掺杂层,所述P型掺杂层上端固定连接有氧化孔径层,所述氧化孔径层上端固定连接有P‑DBR层,所述P‑DBR层上端固定连接有欧姆接触层。达到了各电极相互独立,能够通过调控各电极的电流及工作时序的效果。
技术关键词
VCSEL芯片
欧姆接触层
P型掺杂层
N型衬底
花状
缓冲层
电极
刻蚀深度
光刻胶
氮化硅
氧化硅
氧化铝
介质
电流
时序
电阻
基础
尺寸
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