一种花状VCSEL芯片及其制备方法

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一种花状VCSEL芯片及其制备方法
申请号:CN202411947972
申请日期:2024-12-27
公开号:CN119787088A
公开日期:2025-04-08
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种花状VCSEL芯片及其制备方法,其涉及VCSEL芯片技术领域,旨在解决目前VCSEL芯片的结构上基本一致,但是相同的结构和形状不利于VCSEL芯片中电流注入效率,降低了整体的工作效率的问题,其技术方案要点是包括N型衬底,所述N型衬底上端固定连接有缓冲层,所述缓冲层上端固定连接有N‑DBR层,所述N‑DBR层上端固定连接有N型掺杂层,所述N型掺杂层上端固定连接有有源区层,所述有源区层上端固定连接有P型掺杂层,所述P型掺杂层上端固定连接有氧化孔径层,所述氧化孔径层上端固定连接有P‑DBR层,所述P‑DBR层上端固定连接有欧姆接触层。达到了各电极相互独立,能够通过调控各电极的电流及工作时序的效果。
技术关键词
VCSEL芯片 欧姆接触层 P型掺杂层 N型衬底 花状 缓冲层 电极 刻蚀深度 光刻胶 氮化硅 氧化硅 氧化铝 介质 电流 时序 电阻 基础 尺寸
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