半导体晶圆或半导体芯片的保护薄膜形成用复合片

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半导体晶圆或半导体芯片的保护薄膜形成用复合片
申请号:CN202411969844
申请日期:2024-12-30
公开号:CN120230498A
公开日期:2025-07-01
类型:发明专利
摘要
本发明涉及一种用于保护半导体晶圆或半导体芯片的保护薄膜形成用复合片,本发明的复合片包括:基材薄膜;粘合剂层,层叠在所述基材薄膜的一面;以及保护薄膜,层叠在所述粘合剂层上,所述粘合剂层在532nm波长下的透光率超过85%,所述粘合剂层在600~680nm波长下的透光率为80%以下,因此即使在激光标记工艺之后,粘合剂层与保护薄膜之间也不会发生气体积聚,并且标记可视性优异。
技术关键词
复合片 保护薄膜 粘合剂层 半导体芯片 丙烯酸共聚物树脂 半导体晶圆切割 透光率 基材 粘合薄膜 波长 聚丙烯薄膜 层叠 热固性树脂 染料 磷酸盐 引发剂 固化剂
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