一种物理气相沉积设备

本实用新型提供了一种物理气相沉积设备，包括：吸附装置，吸附装置上安装基材；固定板，悬空固定在吸附装置的正上方，且固定板上固定靶材，其中靶材位于固定板面向吸附装置的一面，其中靶材在吸附装置上的正投影覆盖基材；机械臂控制组件，机械臂控制组件的一端安装遮护盘，允许机械臂控制组件带动遮护盘移动，直到遮护盘位于吸附装置和靶材之间，且遮护盘在吸附装置上的正投影覆盖吸附装置；监控装置，监控装置包括多个信号发生端和多个信号接收端，其中信号发生端与遮护盘处于同一高度，且信号发生端位于机械臂控制组件的一侧，信号接收端位于机械臂控制组件的另一侧。本实用新型能够保持沉积平台表面清洁，且不间断地监测遮护结构的位置。