一种大电流镀铜凸点结构

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一种大电流镀铜凸点结构
申请号:CN202422920523
申请日期:2024-11-28
公开号:CN223501868U
公开日期:2025-10-31
类型:实用新型专利
摘要
本实用新型涉及大电流镀铜领域,尤其涉及一种大电流镀铜凸点结构,该结构可增强凸点结构的牢固程度,避免铜柱松动脱落的问题。包括底部的芯片和上侧的铝薄膜层,铝薄膜层上侧设有铜柱,所述铜柱底面与铝薄膜层之间设有粘附层;所述铜柱底部侧面设有周向环形凹槽,铜柱周围的钝化层延伸进入环形凹槽内形成相互配合的嵌插结构;所述铜柱顶面设有镍阻挡层,镍阻挡层上侧设有锡帽。它操作简单,使用方便,适用于多种电路板。
技术关键词
凸点结构 大电流 阻挡层 薄膜层 凹槽 环形 芯片 电路板
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