光掩膜图像处理方法、装置、电子设备及存储介质

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光掩膜图像处理方法、装置、电子设备及存储介质
申请号:CN202510053107
申请日期:2025-01-14
公开号:CN119478124B
公开日期:2025-04-11
类型:发明专利
摘要
本申请实施例公开了一种光掩膜图像处理方法、装置、电子设备及存储介质。该方案可以获取至少一个光掩膜图像,并根据光掩膜图像的位置信息建立多条相同间隔的水平扫描线,依次遍历每条扫描线上与光掩膜图像的交点,并计算当前扫描线上的交点与相邻的上一条扫描线上的交点之间的水平距离,若水平距离小于预设水平间隔,则删除当前扫描线上的交点,在遍历得到的全部交点中,根据每两个相邻交点确定顶点位置,连接全部顶点位置以得到光掩膜图像的第一目标图像。本申请实施例通过水平扫描线确定光掩模图像中的交点以及顶点,连接顶点后得到第一目标图像,从而快速完成图像的曼哈顿化,并且可以满足加工精度的要求,提升计算效率。
技术关键词
光掩膜 图像处理方法 顶点 延长线 交叉点 光刻胶 电子设备 图像处理装置 间距 仿真模型 存储器 处理器 光强 精度 模块 掩模 棱镜
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