摘要
本发明属于集成光电子技术领域,公开了一种基于胶体纳米晶的PN结注入型硅基电光调制器及制备方法,包括:波导包层;硅波导层,设置在波导包层上方;硅波导层的两端加工用于光信号的输入与输出的光耦合器;下电极层,与硅波导层连通;胶体纳米晶层,采用氧化物半导体胶体纳米晶制备,设置在硅波导层上方,并与硅波导层构成PN结;上电极层,设置在胶体纳米晶层上方。有效解决目前硅基电光调制器面临的调制效率低、加工繁琐、异质集成困难的问题,具有溶液制备加工衬底兼容性、可大规模集成、高调制效率、高调制深度及小尺寸等特点,有望推动硅基光电子芯片向高度集成方向发展。
技术关键词
胶体纳米晶
波导
氧化物半导体
上电极
透明导电氧化物
耦合器
硅基光电子芯片
硅基电光调制器
集成光电子技术
等离子刻蚀工艺
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光信号
高调制深度
高调制效率
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