一种基于粒子群优化的EPE胶膜P层厚度均匀性检测方法

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一种基于粒子群优化的EPE胶膜P层厚度均匀性检测方法
申请号:CN202510169980
申请日期:2025-02-17
公开号:CN119642725B
公开日期:2025-07-04
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种基于粒子群优化的EPE胶膜P层厚度均匀性检测方法,具体涉及EPE胶膜检测领域,包括搭建光学干涉检测系统,光学干涉检测系统包括激光光源、分光器、干涉探测器和数据采集模块;将EPE胶膜样品放置于光学干涉检测系统的测量区域中,紧接着调整激光光源、分光器的光路参数,通过干涉探测器捕获不同位置的干涉图像,干涉图像包括条纹位移、条纹间距及条纹强度分布,干涉图像用于反映EPE胶膜P层厚度的变化信息。通过光学干涉检测结合粒子群优化算法,建立了胶膜P层厚度分布模型,模型综合条纹位移、条纹间距和条纹强度分布的信息,相对提升了厚度均匀性检测的全面性,从而适用于现实中厚度变化的检测需求。
技术关键词
厚度均匀性检测方法 干涉检测系统 胶膜 条纹 粒子群优化算法 激光光源 数据采集模块 图像处理算法 探测器 强度 间距 速度 参数 分光器 边缘检测算法 光程 误差 光束
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