光学器件的加工误差校正方法及装置

本发明提供了一种光学器件的加工误差校正方法及装置，该方法包括：采用在多个方位和多个波段下对待校正的光学器件进行LED照射与检测，以获得包含反射分布信息、透射分布信息及干涉条纹模式的初始检测数据；根据该数据生成标明坐标位置与对应误差类型的误差分布图，并对各区域进行研磨处理、抛光处理或局部膜层修补处理，得到修整后局部形貌、膜层特征及修整区域坐标信息所构成的更新数据；继而在全表面范围内再次进行LED照射与检测，获得综合校正结果。该方法在确保对多层膜系和高精度表面展开完整检测的同时，实现对局部偏差的及时纠正，适用于各类高端光学器件的批量化生产。