一种光刻模型构建方法、设备、介质及产品

本申请公开了一种光刻模型构建方法、设备、介质及产品，应用于光刻技术领域。本方法设置了一个对准误差来表征所述掩模图形样本与所述实际光刻图形对准时存在的偏移量。并在训练第一光刻模型时，迭代调整对准误差以及第一光刻模型的参数，直至代价函数值满足迭代停止条件；进而得到能够准确仿真的光刻模型。本申请将对准误差作为一个待求解的未知量，并在模型的每轮迭代中校准这个未知量的值，进而求解得到较为准确的对准误差值，再通过对准误差来对准模型输出的仿真图形与实际光刻图形，就能够消除掩模图形样本与实际光刻图形未对准而产生的影响，从而保证了模型训练的效果，提高了光刻模型的仿真精准度。