摘要
本发明公开一种亚分辨率辅助图形的插入方法,具体为亚分辨率辅助图形插入规则的优化方法以及应用该优化方法的亚分辨率辅助图形的插入方法,先设定亚分辨率辅助图形参数,根据主图形选择距离度量函数,并采用有符号距离函数将主图形转换为水平集合表示;然后根据所设定的亚分辨率辅助图形参数,在主图形周围插入多圈亚分辨率辅助图形;对多圈亚分辨率辅助图形进行冲突清理,最后进行倒角操作,完成优化。改变上述亚分辨率辅助图形参数并进行分别插入,选择掩模优化效果提升最大的插入规则,作为最终使用的亚分辨率辅助图形插入规则。本发明具有参数简洁、掩模可制造性高和掩模优化效果显著等优点,适用于下一代集成电路制造领域。
技术关键词
亚分辨率辅助图形
光学临近效应修正
光刻图形
评估掩模
坏点数量
参数
光刻模型
切比雪夫
度量
版图
处理器
可读存储介质
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符号
间距
对比度
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