一种用于激光束重叠和聚焦的超构表面器件及其制备的偶极阱和磁光阱一体化芯片

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一种用于激光束重叠和聚焦的超构表面器件及其制备的偶极阱和磁光阱一体化芯片
申请号:CN202510317772
申请日期:2025-03-18
公开号:CN120386050A
公开日期:2025-07-29
类型:发明专利
摘要
本发明提供一种用于激光束重叠和聚焦的超构表面器件及其制备的偶极阱和磁光阱一体化芯片,属于光学技术领域,通过调节超构表面上纳米柱的位置,设计出用于激光束重叠和聚焦的超构表面器件;器件将后端射入的冷却光形成三束偏折光束,三束偏折光束均向器件中心发生偏折并重叠;器件将后端射入的偶极光聚焦为阵列的锥型偶极光束,锥型偶极光束的顶点在三束偏折光重叠区域形成偶极阱阵列,通过双光束与平面线圈的结合,设计出透射型磁光阱芯片,解决单光束冷却光与偶极阱阵列一体化构建需求之间的矛盾,解决了以往制备偶极阱阵列和磁光阱中光路系统占地面积大,质量重,无法集成的缺点,实现在偶极光和冷却光作用下同时制备偶极阱阵列和磁光阱。
技术关键词
超构表面器件 平面线圈 坐标 位置优化算法 阵列 基底 激光束 工作点 理论 移动单元 顶点 系统占地面积 GS算法 芯片 聚焦算法 网格 电磁仿真
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