一种消除电压钳位的屏蔽栅场效应晶体管及其制备方法

AITNT
正文
推荐专利
一种消除电压钳位的屏蔽栅场效应晶体管及其制备方法
申请号:CN202510458372
申请日期:2025-04-14
公开号:CN119997565B
公开日期:2025-07-29
类型:发明专利
摘要
一种消除电压钳位的屏蔽栅场效应晶体管及其制备方法,屏蔽栅场效应晶体管包括屏蔽栅、控制栅和源极金属,屏蔽栅和控制栅位于沟槽内,屏蔽栅包括栅体部分和延伸部分,栅体部分位于控制栅下方,延伸部分由栅体部分向上延伸,自控制栅两侧引出至沟槽顶部,或延伸部分自控制栅一侧引出至沟槽顶部;延伸部分的顶部通过配置接触孔结构与源极金属直接接触。本发明较传统SGT中屏蔽栅与控制栅的上下结构,可以在延伸出的屏蔽栅延伸部分顶部开整条接触孔与源极金属直接接触,消除了屏蔽栅电阻,从而避免了屏蔽栅电流电压,消除了屏蔽引入的电压钳位问题,同时改善整体芯片的电荷平衡效应及电场分布,降低电流集中。
技术关键词
屏蔽栅 电压钳 沟槽 氧化层 接触孔结构 栅极多晶硅 后续电极 长条形 淀积 电流 晶圆 电场 效应 芯片 电阻
系统为您推荐了相关专利信息
1
一种差压压力传感器芯片及其加工方法
差压压力传感器 引线 氧化层 孔洞 信号
2
用于半导体器件的仿真方法、电子设备及存储介质
神经网络模型 机械抛光 物理 仿真方法 仿真模型
3
一种改善车载芯片可靠性的封装结构的制造方法及其产品
封装结构 芯片 阻挡层 光刻制程 基底
4
浮栅型存储器TCAD仿真模型的校准方法、设备及存储介质
浮栅型存储器 仿真模型 界面氧化物 电容耦合比 校准方法
5
一种铁电晶体管、FeFET存储器阵列及芯片
铁电晶体管 位线 存储器阵列 氧化剂 阻挡层
添加客服微信openai178,进AITNT官方交流群
驱动智慧未来:提供一站式AI转型解决方案
沪ICP备2023015588号