多模态成像系统配准精度的校正设备及其制备方法

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多模态成像系统配准精度的校正设备及其制备方法
申请号:CN202510483719
申请日期:2025-04-17
公开号:CN120304857A
公开日期:2025-07-15
类型:发明专利
摘要
本申请提供了一种多模态成像系统配准精度的校正设备及其制备方法。该校正设备包括:支架,支架包括至少四个支杆,每个支杆上均设有一点源容纳部,至少四个支杆的顶部构成一虚拟立体结构,每个点源容纳部分别位于一个顶部的位置上;以及至少四个点源,分别容纳在至少四个点源容纳部内,点源采用具有溶液吸附能力的高密度材料制成,在使用校正设备对多模态成像系统校正时,每个点源吸收有放射源溶液。本申请提供的校正设备包括具有溶液吸附能力的点源,点源能够通过充分吸收放射源溶液,形成放射性点源,而且点源本身的高密度特性能够代替造影剂在CT扫描下成像,无需再使用放射源和造影剂的混合溶液,而且校正效果非常好。
技术关键词
校正设备 放射源 支杆 立方体结构 溶液 多模态成像系统 高密度 立体 槽体 尺寸 螺纹柱 密封头 支架 造影剂 多面体 系统校正 入口 球体
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