一种真空处理设备

本发明属于真空处理技术领域，公开了一种真空处理设备，第一装载架能够装载多个工件，第一装载架能整体置入或离开第一腔室；搬送机构设于第一腔室内，搬送机构能在第一腔室和第二腔室之间搬送工件，并在搬送工件过程中选择性地带动工件旋转。通过第一装载架能整体置入或离开第一腔室，便于清洁，提高了工件输送的效率和真空处理良率；将工件的待镀膜面朝向外部装载于第一装载架，搬送机构带动工件移动并翻转，以使工件的待镀膜面在第二腔室内朝向外部；将工件的待镀膜面朝向内部装载于第一装载架，搬送机构带动工件移动，不用翻转，工件的待镀膜面在第二腔室内会自然地朝向外部；搬送机构的选择性翻转，提高了真空处理设备的生产灵活性。