摘要
本发明公开了一种印制线路板的加工工艺,包括如下步骤:S1.基板预处理:采用离子束活化处理对铜箔层压板的表面进行粗化处理,活化能量控制在5.5~7.5kJ/cm2,表面粗糙度调节为Rz 0.35~0.45μm;S2.图形转移:使用激光直写曝光系统进行图形转印,激光波长选用266nm紫光激光,光斑直径控制在9~11μm,曝光能量密度为130~140mJ/cm2;S3.真空蚀刻工序:在真空度0.06~0.07MPa条件下,采用复合蚀刻液进行蚀刻,所述复合蚀刻液包含9~11wt%过硫酸铵、3~4wt%硫酸铜和0.8~1.2wt%聚乙二醇2000,控制蚀刻速率为9~11μm/min。
技术关键词
印制线路板
激光直写曝光系统
铜箔层压板
蚀刻液
真空蚀刻
有机硅改性丙烯酸酯
机器学习算法
固化阻焊油墨
X射线断层扫描
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能量控制
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离子束
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