一种基于多模态形变场分析的LDI曝光机光路变形监测方法

本发明涉及LDI曝光机对位精度技术领域，具体公开了一种基于多模态形变场分析的LDI曝光机光路变形监测方法，包括：获取基板多模态监测数据，其中，所述基板多模态监测数据包括基板基准点阵列数据、复合标定图案、近红外图像、光栅温度场分布数据和振动频谱数据；根据所述近红外图像、基板基准点阵列数据和复合标定图案获取多个基板区域的形变特征数据；基于每个所述形变特征数据、光栅温度场分布数据和振动频谱数据获取融合形变特征数据；根据所述融合形变特征数据生成每个基板区域对应的光路连续形变场。本发明通过获取基板多模态监测数据，如基板基准点阵列数据、复合标定图案、近红外图像等，从多维度全面反映基板状态，弥补传统单一数据监测的不足。