半导体器件及其形成方法

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半导体器件及其形成方法
申请号:CN202510792514
申请日期:2025-06-13
公开号:CN120676643A
公开日期:2025-09-19
类型:发明专利
摘要
本公开实施例提供一种半导体器件及其形成方法,该半导体器件包括:沿第一方向依次堆叠的第一半导体结构、第一键合层、第二半导体结构;其中,第一半导体结构包括晶体管结构;第二半导体结构包括忆阻结构;第一键合层包括沿第二方向排布的第一键合结构以及第二键合结构;忆阻结构通过第一键合结构和第二键合结构与晶体管结构连接;第二方向与第一方向垂直。
技术关键词
键合结构 半导体结构 晶体管结构 接触结构 半导体器件 互连结构 导电线 触点 介质 晶圆 电极 钙钛矿材料 二维材料 芯片 金属氧化物 电路
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