摘要
本发明涉及一种基于TSV的电容式超声换能器的制备方法,在SOI晶圆A上经过一系列体硅工艺制作隔离槽(101)及其TSV导电柱(102),在SOI晶圆A底面制作金属电极(103、104、105),振膜结构层SOI晶圆B与SOI晶圆A进行高温硅硅键合,晶圆A上完成第一接触电极(201)、第二接触电极(202)、第三接触电极(203)的制备。本发明的有益效果是,TSV导电柱形成垂直导电通道,实现不同芯片层之间的电学连接,引出的金属电极与可动敏感振膜不在同一面,可将金属电极通过植球、倒装焊的方式从背面引出,大大减小器件整体尺寸并提高信号传输速度和降低串扰,提升CMUT的整体性能。
技术关键词
电容式超声换能器
金属接触孔
接触电极
二氧化硅
光刻
衬底
振膜结构
CMUT阵列
多晶硅
制作金属电极
硫酸
隔离氧化层
导电柱
电信号
双面
芯片
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