一种超导量子芯片底层电路制备方法、系统及存储介质

本发明公开了一种超导量子芯片底层电路制备方法、系统及存储介质，制备方法为清洁衬底后形成超导金属层，涂光刻胶光刻显影得底层电路图形，干法刻蚀至预定厚度后去胶清洗，再湿法刻蚀完全去除剩余金属并清洗。制备装置包括蒸镀、光刻、干法刻蚀以及湿法刻蚀设备。计算机存储介质存储用于运行超导量子芯片底层电路制备方法的计算机程序。本发明结合干、湿法刻蚀工艺，先干法刻蚀保留一定厚度金属层以保证侧壁陡直度和粗糙度，提升谐振腔品质因子，再湿法刻蚀避免等离子体对衬底的损伤，减少系统二能级缺陷，进而提升量子比特性能。