优化的Ⅱ类超晶格红外探测器芯片底部填充方法、制备方法及红外探测器

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优化的Ⅱ类超晶格红外探测器芯片底部填充方法、制备方法及红外探测器
申请号:CN202511173390
申请日期:2025-08-21
公开号:CN120751798A
公开日期:2025-10-03
类型:发明专利
摘要
本申请提供了一种优化的Ⅱ类超晶格红外探测器芯片底部填充方法、制备方法及红外探测器,属于红外探测器领域;解决了现有底部填充工艺填充的填充胶容易产生空洞,最终导致红外焦平面探测器芯片成像时出现缺陷,影响红外探测器性能的问题;该方法包括以下步骤:在完成台面刻蚀后的外延材料表面沉积一层介质层,且介质层高度高于台面刻蚀深度;在介质层沉积后,将介质层表面抛光平整;在台面表面上的介质层进行开孔;在介质层的开孔内制备铟柱,之后将外延材料端的铟柱与读出电路上的铟柱进行倒焊互连;倒焊互连后,在介质层与读出电路之间进行底部填充胶填充,之后对填充胶进行高温固化;本申请应用于Ⅱ类超晶格红外探测器。
技术关键词
红外探测器芯片 底部填充方法 类超晶格 红外焦平面探测器芯片 读出电路 底部填充胶 介质 台面 分子束外延方法 层沉积 底部填充工艺 刻蚀深度 铟柱 硬掩膜刻蚀 衬底上用 抛光 光刻
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