一种高密度封装体层间导通互联方法及结构

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一种高密度封装体层间导通互联方法及结构
申请号:CN202511225008
申请日期:2025-08-29
公开号:CN120954988A
公开日期:2025-11-14
类型:发明专利
摘要
本发明涉及芯片封装技术领域,公开了一种高密度封装体层间导通互联方法及结构,包括:步骤S100:在载板两面依次层叠贴合支撑层和功能层;步骤S200:电镀增厚所述功能层,并在所述功能层上制作用于贴设封装芯片的第一线路;步骤S300:在所述功能层上贴设若干个封装芯片,所述封装芯片与所述第一线路电连接;步骤S400:在所述功能层上形成覆盖所述封装芯片的塑封层;步骤S500:在所述塑封层内形成与所述封装芯片电连接的焊盘连通结构,所述焊盘连通结构覆盖所述塑封层表面;步骤S600:将所述功能层从所述支撑层上剥离,使所述功能层和所述塑封层形成单个封装体。本发明实现整板多个封装芯片之间的导通互联。
技术关键词
封装芯片 互联方法 高密度 缓冲层 载体铜箔 焊盘 线路 封装体 半固化片 金属沉积 芯片封装技术 电镀 通孔 载板 蚀刻工序 蚀刻工艺 层叠 金属材料 回路
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沪ICP备2023015588号