一种波导光栅结构的腐蚀液及其腐蚀工艺

本发明属于腐蚀液技术领域，公开了一种波导光栅结构的腐蚀液及其腐蚀工艺。所述腐蚀液为包括磷酸、过氧化氢、柠檬酸和醋酸的水溶液；所述腐蚀液中，磷酸、过氧化氢、柠檬酸、醋酸和水的摩尔比为0.017～0.172：0.043～0.426：0.005～0.052：0.018～0.140：5.55。本发明提出了一种低成本、表面光洁度高、均匀可控、制备简单、腐蚀速率慢、高精度和高陡峭度、对人体和环境无害的光栅波导腐蚀液和腐蚀工艺，实现了高精度和低损伤腐蚀，对于提高GaSb、InGaAsSb、AlGaAsSb波导光栅结构芯片的性能和降低生产成本具有重要意义。