一种GaAs刻蚀工艺的检测工艺及检测系统

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一种GaAs刻蚀工艺的检测工艺及检测系统
申请号:CN202410854311
申请日期:2024-06-28
公开号:CN118398515B
公开日期:2024-11-12
类型:发明专利
摘要
本发明属于刻蚀工艺监管技术领域,具体是一种GaAs刻蚀工艺的检测工艺及检测系统,其中,该检测系统包括智能控制平台、光源模块、高精度摄像模块、图像处理分析模块和显示模块;本发明通过光源模块照亮待检测的GaAs刻蚀产品的表面,高精度摄像模块捕获GaAs刻蚀产品的表面图像,图像处理分析模块通过特定的算法对图像进行精确处理和分析,显示模块对相应GaAs刻蚀产品的处理分析信息进行显示,能够满足GaAs刻蚀工艺检测的高精度和高效率要求,且能够对所有刻蚀设备和产生的所有刻蚀缺陷进行分析并准确划分,有利于管理人员合理作出相应改善措施,有效保证GaAs刻蚀的刻蚀效果,智能化和自动化水平高。
技术关键词
刻蚀缺陷 刻蚀产品 智能控制平台 刻蚀设备 刻蚀工艺 标记 分析模块 摄像模块 光源模块 刻蚀深度 管理终端 刻蚀形貌 形貌特征 识别算法 模块通信 图像处理算法 数值
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