一种提高发光效率的芯片结构及其制备方法

AITNT
正文
推荐专利
一种提高发光效率的芯片结构及其制备方法
申请号:CN202411026568
申请日期:2024-07-30
公开号:CN118867084A
公开日期:2024-10-29
类型:发明专利
摘要
本发明涉及半导体芯片技术领域,具体公开了一种提高发光效率的芯片结构及其制备方法,该提高发光效率的芯片结构,包括基板,第一半导体层,有源层,第二半导体层,第一导电层,反射层,介质层,第一绝缘层,第二绝缘层,第二导电层,第三绝缘层,焊盘,贯穿所述第二半导体层及所述有源层,并延伸到所述第一半导体层内部的凹陷;所述介质层覆盖于所述反射层以及第一绝缘层表面,介质层一侧接触反射层和第一绝缘层,另一侧接触第二绝缘层,形成夹心结构;该提高发光效率的芯片结构,能够有效地阻挡了反射层中的Ag向相邻层中迁移,提高器件的稳定性,同时,介质层采用的材料吸光系数较小,折射率高,可以提高全反射效率,从而提高器件发光效率。
技术关键词
芯片结构 半导体层 导电层 夹心结构 半导体芯片技术 多层金属结构 介质 焊盘 多层结构 非晶碳膜 单层 基板 氧化钽 氧化钛 金刚石 缝隙 氧化铝
系统为您推荐了相关专利信息
1
一种可拉伸LED芯片结构和制备方法
热塑性塑料薄膜 LED芯片结构 柔性可拉伸导电材料 欧姆接触层 金属电极
2
硅压阻式压力传感器的芯片设计方法及系统
GRU神经网络 芯片设计方法 参数 数值 神经网络输出层
3
一种硅光芯片的检测系统
子模块 硅光芯片 代表 芯片结构 图像灰度值
4
使用背面连接的去耦电容器
集成电路 板状电极 高k电介质 电容器 半导体装置
5
半导体存储装置及半导体存储装置的制造方法
半导体存储装置 栅极电极层 积层体 半导体衬底 半导体层
添加客服微信openai178,进AITNT官方交流群
驱动智慧未来:提供一站式AI转型解决方案
沪ICP备2023015588号