摘要
本发明公开了一种尺寸微缩下一类新型栅极芯结构。本发明中,做将栅极做内部调控,处于半导体的包围中,可以是从单面到多面,并且可以做不同形状,不含金属时可做导电沟道反向掺杂。此类内栅结构可单独做栅极使用,也可与外栅结构组合使用。此类内栅结构充分利用了栅极外表面,具有与外栅不同的栅控能力、灵活的栅控能力和更小的占地面积,易于使器件进行微缩;由于在在半导体内部,形状限制明显少于外栅,外栅需要跟随半导体外表面变化,内栅可任意变化,且不影响半导体形状随意变化,这样半导体和栅极同时具有形状可调节性,设计起来将更轻松,内栅下的半导体器件模型设计可更容易跟随所调控电流变化,更有利于提高电流的控制能力。
技术关键词
半导体材料
半导体器件模型
二氧化硅
金属线
多晶硅
导电
栅极绝缘层
电路
氮化硅
尺寸
非金属材料
曲面
长方体
柱面
电流
球状
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