摘要
本发明介绍了一种异质键合三维集成封装结构,该结构由EMC总体层、Glass总体层、RDL布线层、连接组件、半导体芯片及钝化层组成。半导体芯片通过晶圆重构技术嵌入EMC树脂和Glass层湿法刻蚀形成的腔体中,实现了高集成度设计。连接组件和Glass层所采用的TGV结构,通过高精度金属对位键合技术连接EMC与Glass层,确保电气导通与结构稳定。RDL结构则提供电气引出,并具有转接板集成扩展性。由于EMC材质特性及其封装过程中产生的翘曲变形,导致EMC晶圆级封装在后续多层的集成布线制备工艺中面临困难,本结构在拥有高集成度与机械强度的同时通过EMC与Glass材料之间的热膨胀系数适配及键合作用力拉伸,有效降低翘曲,满足后续更高密度的布线需求。
技术关键词
三维集成封装结构
半导体芯片
金属键合结构
异质
RDL布线层
精确控制键
RDL结构
贴装工艺
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重构技术
玻璃
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