摘要
本发明涉及半导体材料的技术领域,公开了一种LED芯片及其制备方法,所述制备方法包括:(1)提供一衬底,在衬底上生长外延层,随后在外延层的表面沉积电流阻挡层;(2)在表面涂覆光刻胶,通过黄光工艺将光刻胶图形化,随后依次沉积光反射材料和第一金属材料,并去胶清洗,形成预设形状的光反射层和预设形状的第一金属电极层;(3)在表面沉积ITO材料,随后通过黄光、刻蚀,形成预设形状的ITO电流扩展层;(4)在表面涂覆光刻胶,通过黄光工艺将光刻胶图形化,随后沉积第二金属材料,并做去胶处理,形成预设形状的第二金属电极层;(5)在表面沉积钝化保护层。通过本发明中的制备方法,可以提高LED芯片的发光亮度并解决LED芯片易脱落、制程良率低等问题。
技术关键词
金属电极层
钝化保护层
电流阻挡层
衬底上生长外延层
涂覆光刻胶
黄光工艺
LED芯片
金属材料
ITO材料
电流扩展层
ITO电流扩展
制程良率
半导体材料
层叠
周期性
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