一种光学薄膜的沉积方法及沉积系统

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一种光学薄膜的沉积方法及沉积系统
申请号:CN202411572669
申请日期:2024-11-06
公开号:CN119433462A
公开日期:2025-02-14
类型:发明专利
摘要
本申请提供的光学薄膜的沉积方法及系统,确定蒸发源的起始位置;确定所述蒸发源的运动轨迹;获取所述蒸发源的运动轨迹与待沉积光学元件的表面薄膜厚度特征方程;根据所述表面薄膜厚度特征方程获取所述蒸发源与所述待沉积光学元件在不同相对位置的运动状态;根据所述运动状态进行虚拟镀膜;当所述虚拟镀膜结果与实际沉积结果的吻合时即可对所述待沉积光学元件进行光学薄膜沉积,上述沉积方法及系统对不同面形的待沉积光学元件具有很强的通用性,无论是中心有孔、中心无孔还是其他复杂光学元件,都可以通过该方法实现均匀沉积。
技术关键词
光学元件 光学薄膜 沉积方法 镀膜 电子束蒸发系统 沉积系统 运动轨迹优化 数学模型 模块 速率 非球面 往复运动 加速度 物理 关系 气相 方程
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