一种离子注入机

本申请公开了一种离子注入机，涉及半导体制造技术领域，包括：晶圆载台，机械臂；对准台；气锁台；V型臂；靶盘两侧设有夹持点；靶盘的左右两侧设有槽型结构，靶盘表面设有与晶圆的对准标记，通过真空吸附点确保晶圆在旋转时紧密贴合靶盘表面，避免旋转时因离心力造成的位移，靶盘两侧的槽型结构为V型臂的晶圆传送提供了稳定的操作路径，确保传送过程顺畅无误，夹持点进一步固定晶圆边缘，在晶圆移动过程中防止晶圆晃动，对准标记则确保晶圆定位精准，实现了现有的离子注入机在生产6英寸晶圆时晶圆发生晃动，导致位置产生偏移的问题，可以使离子注入机可以在生产6英寸晶圆防止晶圆发生晃动，避免位置发生位移。