微机械结构及制作方法

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微机械结构及制作方法
申请号:CN202510041651
申请日期:2025-01-10
公开号:CN119660664A
公开日期:2025-03-21
类型:发明专利
摘要
本申请公开了一种微机械结构及制作方法,该微机械结构包括:衬底;第一牺牲层,位于衬底上,第一牺牲层中形成有第一腔体;第一结构层,位于第一牺牲层上,第一结构层包括向衬底方向凸出的凸起结构;其中,第一腔体使第一结构层中包括凸起结构的至少部分悬空,凸起结构朝向衬底一侧的表面包括弧形,以防止第一结构层与其下方相邻的结构发生粘附。本申请提供的微机械结构,通过在结构层上设置凸起结构,可以防止第一结构层在形变或者运动过程中与邻近结构发生粘附,减少器件因粘附而失效的可能,该凸起结构具有较高的机械强度,通过设计该凸起结构的高度可限制第一结构层的最大振幅,本申请提高了微机械机构的可靠性和稳定性,拓展了使用场景。
技术关键词
微机械结构 凹坑 衬底 掩膜 磷硅玻璃 刻蚀工艺 腔体 MEMS芯片 无定形硅 硼硅玻璃 球面 机械机构 弧面 柱体 单晶硅 氢氟酸 多晶硅 氮化硅 氧化硅
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