摘要
描述了使用着色硬掩模的背面源极或漏极接触部选择性。一种结构包括位于第一纳米线或鳍状物的端部的第一外延源极或漏极结构,垂直位于第一外延源极或漏极结构的底部下方的第一导电源极或漏极接触部,以及位于第一导电源极或漏极接触部下方并与其接触的第一硬掩模材料。第二外延源极或漏极结构位于第二纳米线或鳍状物的端部,第二导电源极或漏极接触部垂直位于第二外延源极或漏极结构的底部下方并与其接触,并且第二硬掩模材料位于第二导电源极或漏极接触部下方并与其接触。第一硬掩模材料横向延伸超出第一导电源极或漏极接触部,并横向连续围绕第二硬掩模材料。
技术关键词
硬掩模材料
堆叠纳米线
集成电路结构
外延
导电
栅极堆叠体
横向间隔开
通信芯片
集成电路管芯
数字信号处理器
着色
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