一种半导体晶圆的切割方法

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一种半导体晶圆的切割方法
申请号:CN202510243405
申请日期:2025-03-03
公开号:CN119795401A
公开日期:2025-04-11
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种半导体晶圆的切割方法,包括步骤:提供晶圆,所述晶圆包含多个碲镉汞芯片;使用第一划片刀,对所述多个碲镉汞芯片之间的间隙进行第一次划切,形成第一线槽;使用第二划片刀沿所述第一线槽进行第二次划切,形成第二线槽,所述第二线槽的宽度小于第一线槽宽度,第二线槽深度与第一线槽深度之和小于晶圆厚度;对所述第二线槽处的晶圆进行湿法刻蚀,使得所述多个碲镉汞芯片一一分离。本发明提供的半导体晶圆的切割方法,通过多次划切后湿法刻蚀断开,明显改善了划片崩边及裂纹的问题,大大提升了红外探测芯片的性能。
技术关键词
碲镉汞芯片 切割方法 半导体 划片刀 晶圆 红外探测芯片 刻蚀深度 光刻胶 刀片 图案 烘箱 裂纹 溶液
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