一种基于局部剂量约束的非等间距晶格分布优化方法

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一种基于局部剂量约束的非等间距晶格分布优化方法
申请号:CN202510313180
申请日期:2025-03-17
公开号:CN120242335A
公开日期:2025-07-04
类型:发明专利
摘要
本发明提供一种基于局部剂量约束的非等间距晶格分布优化方法,包括基于患者影像和勾画好的靶区生成初始晶格;基于蒙特卡洛算法预先计算并存储好剂量核;调用剂量核进行快速剂量优化和计算;为每个晶格靶区建立独立的周边亚空间剂量评价区域与局部剂量约束条件;建立晶格靶区位置优化的多目标函数;通过使用快速模拟退火法或梯度下降法动态调整晶格位置和间距,直到生成满足剂量多目标函数和约束条件的靶区位置分布和剂量分布;本发明通过动态调整晶格间距与位置,结合患者特异性解剖结构,实现每个晶格周边谷剂量的精准控制,从而解决了传统等间距晶格放疗中靶区剂量分布不均及谷剂量控制不足的问题。
技术关键词
分布优化方法 肿瘤 间距 蒙特卡洛算法 梯度下降法 模拟退火法 影像 患者 球体 距离调节 密度 形态 标记 动态 参数 立方体 矩阵 表达式 定义 种子
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