基于物理模型的紧凑型光刻仿真系统

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基于物理模型的紧凑型光刻仿真系统
申请号:CN202510519869
申请日期:2025-04-24
公开号:CN120335250A
公开日期:2025-07-18
类型:发明专利
摘要
本发明提供基于物理模型的紧凑型光刻仿真系统,涉及光刻仿真工具与物理建模技术领域,包括模型构建模块、内核可视化模块、仿真计算模块、结果评估与优化模块、模型库管理模块、实时仿真模块、误差补偿模块、仿真结果验证模块;模型构建模块,根据光刻设备中的光刻机光源波长、相干因子、投影物镜数值孔径、像差系数,以及光刻工艺的光刻胶类型、光刻分辨率要求、光刻图形特征尺寸,构建三维光刻模型,本发明中模型构建模块基于波动光学理论与量子力学理论,全面考虑光在投影物镜中的衍射、光在光刻胶表面及内部的干涉,以及光刻胶分子微观层面的物理化学过程,相较于基础物理模型,能精准模拟光在光刻设备中的复杂传播路径。
技术关键词
光刻仿真系统 光刻图形 光刻胶 光刻模型 紧凑型 模型库管理 投影物镜数值孔径 可视化模块 光刻机光源 优化光刻工艺 傅里叶变换方法 误差补偿算法 内核 光刻设备投影物镜 物理 仿真模型
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